Topographische Analysen

Schichtdicken Bestimmung

Oberflächenfunktionalisierung

Randschicht Härten

parkNX10

Mit der Rasterkraftmikroskopie (englisch: AFM – atomic force microscopy) erfolgen höchstauflösende Oberflächenanalysen. Es werden damit die Oberflächentopographie und die Eigenschaften des Werkstoffes mit einer vertikalen und lateralen Auflösung im Nanometerbereich bestimmt. Dabei werden typischerweise neben den Oberflächenstrukturen die Materialeigenschaften wie Leitfähigkeit, Adhäsionskraft, der Elastizitätsmoduls, die magnetischen Domänen und die elektrostatisch geladenen Domänen sehr präzise mit hoher Ortsaufllösung bestimmt.

  • Oberflächentopographie
  • Leitfähigkeit
  • Adhäsionskraft
  • Elastizitätsmodul
  • Strom-Spannungs-Kurven
  • Magnetische Eigenschaften
  • Elektrische Eigenschaften

- 100 x 100 µm² und 10 x 10 µm² xy-Scanner
- 15 µm z-Scanner
- Probentemperierung von -25°C bis 180°C
- Universal Liquid Cell (ULC)
- Liquid Probehand

Messmodi:

- Contact Mode
- Tapping Mode
- Non-Contact Mode (NCM)
- Nanoindentation
- Nanolitography
- Force Modulation Microscopy (FMM)
- Electrostatic Force Microscope (EFM, EFM-DC)
- Scanning Capacitance Microscope (SCM)
- Conductive Probe AFM (CP-AFM)
- Scanning Tunneling Microscope (STM)
- Magnetic Force Microscopy
- Scanning Thermal Microscopy (SThM)
- Scanning Ion Conductance Microscopy (SICM)

Aufnahme einer Beispieloberfläche mit x-facher Vergrößerung zur Darstellung der Oberflächentopografie.